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比如，当团队在提高含氟聚合物对193nm紫外光敏感度上久攻不下时，林轩会“突然想起”某个在前世被证明非常有效的、关于引入特定吸电子基团来调控聚合物HOMO-LUMO能级差的理论，
并建议他们可以尝试一下某个冷门的、拥有独特分子结构的含氟苯乙烯类单体。
又比如，当团队在如何降低光刻胶线边缘粗糙度（LER）上百思不得其解时，
林轩会“偶然看到”一篇关于高分子链缠结与表面张力对LER影响的早期研究论文，
并“提醒”他们，或许可以通过优化聚合物的分子量分布、或者在配方中加入某种能够降低高分子链活动性的特殊添加剂，来改善LER性能。
这些看似灵光一闪的金手指，每一次，都如同在迷雾中为团队点亮了一盏明灯，
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让他们能够迅速地找到正确的方向，少走无数的弯路。
与此同时，启明芯“伏羲”AI超算平台，也在这场光刻胶的“炼金术”中，展现出了其近乎神迹般的强大威力！
联合实验室的科学家们，将数以万计的、关于不同聚合物单体结构、光致产酸剂（PAG）分子设计、溶剂配方、以及各种添加剂的基础物理化学参数和已知的实验数据，
全部输入到“伏羲”AI的材料基因组数据库和高通量计算平台之中。
然后，在林轩设定的几个核心性能优化目标的指引下，“伏羲”AI便开始利用其强大的量子化学模拟、分子动力学仿真、以及基于深度学习的“逆向设计”能力，
在全球范围内，对数百万、数千万、甚至数亿种可能的材料分子结构和配方组合，进行暴力穷举式的虚拟筛选和性能预测！
它能够在短短数小时之内，完成传统人工实验可能需要数年甚至数十年才能完成的计算量！
它能够从看似杂乱无章的海量数据中，发现那些隐藏最深的、决定光刻胶核心性能的构效关系和黄金配比！
它甚至能够根据预设的性能目标，反向推导和设计出全新的、地球上从未存在过的、具有特定功能的聚合物分子或PAG结构！
“这……这简直不是在做实验，这分明是在开上帝视角啊！”
一位来自华清大学的年轻博士后，在看到“伏羲”AI平台仅仅用了一天时间，就从数万种备选PAG分子中，
精准地筛选出了三款在光酸产生效率、酸扩散控制和热稳定性等综合指标上都远超现有商用产品的全新PAG候选结构时，忍不住发出了这样的惊叹！
就这样，在林轩那超越时代的未来视野指引下，在顾维钧等顶尖科学家的工匠精神打磨下，
更在“伏羲”AI平台那近乎“作弊”般的强大算力加持下，“神农一号光刻胶配方”的研发，如同按下了核动力加速键，
以一种令整个行业都难以置信的速度，向前飞速推进！
一个又一个技术难关被攻克！
一种又一种性能更优异的新型聚合物、PAG和添加剂被成功合成出来！
光刻胶的分辨率，从最初的只能勉强达到90纳米，
一步步地向着65纳米、45纳米、32纳米、甚至28纳米的极限逼近！
敏感度越来越高！线边缘粗糙度越来越低！工艺窗口越来越宽！
实验室里的星光，见证了无数个不眠之夜的汗水与智慧。
每一次微小的进步，都凝聚着整个团队的执着与梦想。
终于，在公元2013年盛夏的一个深夜。
当顾维钧颤抖着双手，将一片涂覆了最新一代神农一号光刻胶配方V9.9版的
12英寸硅晶圆，送入实验室那台从欧罗巴高价进口的、经过启明芯工程师深度改造和优化的193nm ArF浸没式光刻机中，
并成功地在硅片上曝光和刻蚀出了线宽仅有28纳米、且边缘极其陡峭、缺陷密度几乎为零的测试图形时……
整个“启明芯-国家光刻材料联合实验室”的核心控制室内，爆发出了一阵压抑了许久的、如同火山爆发般猛烈的欢呼！
成功了！他们真的成功了！
在M国和东瀛巨头长达数十年的技术封锁和市场垄断之下，
在几乎是从零开始的极端困境之中，华夏，终于拥有了第一款性能达到世界顶尖水平的、拥有完全自主知识产权的高端ArF浸没式光刻胶！
这一刻，实验室的星光，仿佛都为之黯然失色！
因为，一种更加璀璨、也更加耀眼的“华夏之光”，
正在从这间小小的实验室中，冉冉升起，即将照亮整个“星尘补天”的漫漫征途！
“神农一号光刻胶配方”，在经历了无数次“黎明前的黑暗”之后，
终于迎来了它石破天惊、光耀寰宇的伟大诞生！
