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经过半个多月的测试，三微米工艺良品率百分之十七点二，六微米工艺良品率百分之五十七点六，十微米良品率达到惊人的百分之八十七点八。
虽然不足百分之九十的良品率，在后世看来并不算高，但就眼下来说，已经可以跻身国际先进水平了。
“厉害呀~”曲卓听完张总工兴致勃勃的讲解，发出了由衷的感慨。
事实再次证明，起码现阶段，我们的设计能力是绝对没有问题的。
设计组并没有复刻曲卓提供的图纸，而是对micralign100的核心组件稍加修改和调整，重新设计了光刻机的整体结构。从原本的柜式一体设计，变成了现在的卧式分体布局。
从结果上看，加工效率比原本设计要略低一些，功耗也略大了一些。但良品率明显提高，耗材损耗也有所下降。综合性能绝对超越了micralign100。
而且，关键点不在于性能上超越了micralign100多少，而在于有这台设备在手，我们就有了突破封锁的“武器”。
上面的计划是，下个月对外公布这款达到世界一流水平的“自研”光刻机。
等十月份，同型号第二台设备在沪市五厂投入使用。十二月底至明年一月，第三台设备在871厂投入使用。
如此一来，外界就能得出判断，我们大约三到四个月，就能加工出一套光刻机使用的核心部件。
这说明什么？
说明我们已经掌握了，相关的一系列精密加工，以及配套的光源、数控等关键技术。
并且，有能力稳定的提供，符合标准的核心部件。
即便从交付时间上看，生产效率是低下的。与已经掌握关键技术的发达国家，完全没有可比性。
但是，我们毕竟突破了。剩下的不过是慢慢摸索着提高罢了。
西方对付我们的套路，其实几十年都没有变过。
无非是咱们没有的，他们就死死的压着我们。
咱们一旦露出突破的苗头了，他们以相对的低价，斩断我们继续自研和自产的动力。
如果我们已经实现了自产和自研，他们就会用工艺成熟，配套产业链完整所带来的成本优势，冲毁我们的自产能力。
投影式光刻机从74年至今，技术原理早就不是什么秘密了。之前我们一直没有，就是卡在了核心光学和机械部件的加工技术上。
所以，掌握技术的欧美和小日子拼命卡着我们。
随着我们“自研自产”的投影式光刻机投入使用，在他们眼中继续封锁，已经没有了意义。
他们会怎么做？
答案显而易见，不但会解开相关部分的出口管制，还不敢狮子大开口！
原本这些事，是没必要告诉曲卓的。
但能不能达成目标的关键点，是能不能捂住秘密。
曲卓不在的这段时间，所有知情和能接触到相关信息的人，都被安全部门再次严肃的强调了一遍保密纪律。
作为唯一的漏网之鱼，某人刚下火车就被拎到878。
亲眼看到了他做出关键贡献的77-1后，老黎同志罕见的严肃起来，提醒他一定要管好嘴巴……
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