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“备胎计划”如同一台被按下启动键的精密战争机器，各个部件开始以前所未有的效率轰鸣运转。然而，蓝图上的规划与现实中的攻坚，隔着一条名为“执行”的鸿沟，这条鸿沟需要用汗水、智慧，甚至是一次次失败的教训来填平。
王工带着最核心的工艺整合团队，当天就驻扎进了位于南方某省市的“芯海”半导体工厂。这里没有“长青科技”总部那种充满未来感的洁净与秩序，取而代之的是一种粗粝的、属于重工业的庞杂与喧嚣。巨大的厂房内，各种型号的光刻机、刻蚀机、离子注入机如同沉默的钢铁巨兽，散发着机油和特殊化学试剂混合的刺鼻气味。
将“长青一代”那充满创新、却也更加敏感和复杂的设计，与“芯海”相对稚嫩且波动较大的7纳米工艺线进行深度适配，是一项极其艰巨的任务。每一次流片尝试，都像是在雷区中摸索。
“王工！不行！晶圆测试结果出来了，关键路径的时序全部飘红！良品率……不到百分之五！”一个年轻的工程师从测试车间跑出来，脸上沾着灰尘，声音带着哭腔。这已经是这个月第三次流片失败，昂贵的晶圆变成了一堆近乎报废的硅片。
王工看着电子显微镜下那些因为工艺波动导致的、如同扭曲蜈蚣般的电路缺陷，拳头紧紧攥起，指甲几乎要嵌进掌心。他感到一种深深的无力，设计图纸上的完美，在现实的物理法则和工艺局限面前，显得如此脆弱。
与此同时，总部设计部内，切换至国产EDA“华宇九天”的过程也绝非一帆风顺。
“这什么破软件！时序分析模型跟之前用的完全不一样，收敛策略全要重写！”
“仿真速度慢得像蜗牛！跑一个完整场景要十几个小时，这怎么迭代优化？”
“库文件不全！很多我们需要的特殊器件模型根本没有！”
抱怨和焦躁的情绪在团队中蔓延。习惯了国外顶级EDA工具的高效与稳定，突然切换到还不够成熟的国产平台，各种不适应和意想不到的问题层出不穷，严重拖慢了设计优化的进度。
材料供应链那边同样不容乐观。虽然名单上的国内供应商被紧急激活，但部分高纯度特种气体和化学材料的稳定性，与国外顶级产品存在差距，导致生产过程中出现了新的、难以控制的杂质污染问题。
挫折感，如同潮湿的霉菌，开始在新的战场上悄然滋生。连续的失败和缓慢的进展，消耗着“备胎计划”启动时那股澎湃的激情。有人开始怀疑，这条“自力更生”的路，是否真的能走通。
就在这攻坚最艰难、士气最低迷的时刻，林长青来了。
他没有带任何随从，穿着一身普通的工装，悄无声息地出现在了“芯海”半导体嘈杂的车间里。王工看到他时，几乎不敢相信自己的眼睛。
“林总，您怎么来了？这里环境太差……”王工连忙迎上去，脸上带着愧疚和担忧。
林长青摆了摆手，目光直接投向那台正在调试的最新款光刻机。他没有理会王工的劝阻，径直走到设备前，仔细观察着运行参数和晶圆上的对准标记。
“问题出在哪儿？”林长青问，声音平静，却带着一种能穿透所有嘈杂的专注。
王工连忙汇报了最近几次流片失败的具体数据和初步分析。
林长青沉默地听着，然后闭上眼，站在那巨大的、轰鸣的机器旁，仿佛与周遭的喧嚣隔绝。王工和周围的工程师们屏息凝神，他们知道，林总正在动用他那不可思议的能力。
几分钟后，林长青睁开眼，瞳孔深处星璇微闪。他指向光刻机的一个复杂透镜组模块。
“不是工艺配方的问题，是这里。”他的指尖虚点在空气中的一个位置，“透镜组在特定曝光能量下的热变形模型，与控制系统里的补偿算法不匹配。导致了关键层的光刻图形产生了纳米级的畸变，累积到后面层次，就造成了致命的时序错误和短路。”
他精准地报出了一系列复杂的光学参数和热力学系数。
在场的“芯海”资深工艺工程师愣住了，这些参数属于设备核心调试范畴，极其隐秘和复杂，林长青怎么可能看一眼就知道？
“立刻调整补偿算法的这七个参数，”林长青不容置疑地命令道，“按照我报给你们的数值。同时，在曝光后增加一个快速退火步骤，温度控制在正负三度之内，时间不能超过零点五秒。”
他的指令清晰、具体，直指问题的物理本质。
王工立刻带人执行。修改参数，调整工艺步骤。
新一轮的流片在忐忑中开始。
